Skip to main content
Commercial newswire·RU·

DB HiTek прошла квалификационные испытания на надежность для процесса SIC MOSFET на 1 200 В

Компания создает первый в мире полнофункциональный технологический процесс для производства 8-дюймовых пластин из карбида кремния Комплекты проектирования для разработки микросхем (PDK) первого и второго поколения доступны для клиентов, а выпуск PDK третьего поколения запланирован на...

Short extract only — this publisher licenses its text. Read the full release at the source.

More from Commercial newswire

The rest of this wire is for subscribers

Every release from this source, the moment it crosses — plus 80+ other newswires, saved searches and instant alerts.

7 days, no card required.

Read releases like this the second they cross the wire.

1,400+ feedslive on PPN World right now. Every release from this source, the moment it crosses — plus 80+ other newswires, saved searches and instant alerts.

Start the free trial →

Your announcement next? Distribute your press release to the global wires with PPN Source — and track its pickup live here.

PPN Source →
Shared via PPN World — real-time press release intelligence.